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http://worldcat.org/entity/work/id/119307019

Entwicklung einer Technologie zur Herstellung eines neuartigen Substrates mit strukturierten vergrabenen Kobaltdisilizidschichten für die gemeinsame Integration bipolarer und unipolarer Bauteile auf einem SOI-Wafer

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  • "Entwicklung einer Technologie zur Herstellung eines neuartigen Substrates mit strukturierten vergrabenen Kobaltdisilizidschichten für die gemeinsame Integration bipolarer und unipolarer Bauteile auf einem SOI-Wafer"
  • "Entwicklung einer Technologie zur Herstellung eines neuartigen Substrates mit struktuierten vergrabenen Kobaltdisilizidschichten für die gemeinsame Integration bipolarer und unipolarer Bauteile auf einem SOI-Wafer"

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